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                Harrick等離子清洗機(jī)都有哪幾種清洗方式?

                更新時(shí)間:2022-12-21      點(diǎn)擊次數(shù):782
                  等離子體是指弱電解質(zhì)蒸氣,是電子器件、正離子、分子、分子結(jié)構(gòu)或氧自由基的結(jié)合體。清洗時(shí),高能電子器件的沖擊反映蒸汽的分子結(jié)構(gòu),使其離解或削弱電解質(zhì),應(yīng)用引起的各種粒子負(fù)電子在表面被清洗或與被清洗表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而在商業(yè)上消除各種空氣污染物。還可以改善材料本身的表面功能,那么Harrick等離子清洗機(jī)都有哪幾種清洗方式?
                 
                  

                Harrick等離子清洗機(jī)
                 

                 

                  1、化學(xué)反應(yīng)
                  
                  血漿中堿性酶的氧自由基與材料表面的有機(jī)化合物反應(yīng),也叫PE。用co2清洗,使非揮發(fā)性有機(jī)化合物變得揮發(fā)性,產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水。有機(jī)清洗的好處是清洗率高,選擇性好,能有效清洗有機(jī)化學(xué)空氣污染物。主要缺點(diǎn)是轉(zhuǎn)化的金屬氧化物可能會(huì)在材料表面再次產(chǎn)生。在引線(xiàn)鍵合工藝中,金屬氧化物是最不期望出現(xiàn)的,通過(guò)適當(dāng)選擇工藝的主要參數(shù)可以避免這種缺陷。
                  
                  2、Harrick等離子清洗機(jī)物理反應(yīng)
                  
                  也叫磁控濺射刻蝕(SPE)是利用等離子體中的正離子進(jìn)行純物理撞擊,去除附著在材料表面的分子。氬氣用于清洗,正氬離子以足夠的動(dòng)能對(duì)電子器件表面進(jìn)行負(fù)沖擊,沖擊力足以去除所有灰塵。聚合物中的生物大分子被離子鍵分離成小分子水,由機(jī)械泵氣化排出。根據(jù)氬等離子體清洗,可以改變材料表面的外部經(jīng)濟(jì)外觀,使材料在分子結(jié)構(gòu)水平上越來(lái)越“粗糙”,這可以大大提高表面特異性并推進(jìn)表面的粘附。氬氣低溫等離子體的好處是不容易將所有金屬氧化物留在飾面材料表面。缺陷很可能導(dǎo)致過(guò)度侵蝕或空氣污染物顆粒積聚在其他不可預(yù)料的區(qū)域,但是這種缺陷可以通過(guò)微調(diào)主要工藝參數(shù)來(lái)控制。
                  
                  3、Harrick等離子清洗機(jī)物理和化學(xué)反應(yīng)同時(shí)存在
                  
                  物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)均起關(guān)鍵功效的清洗。例如,當(dāng)使用Ar和O2的混合物進(jìn)行在線(xiàn)等離子體清洗的整個(gè)過(guò)程時(shí),化學(xué)反應(yīng)速率必須比單獨(dú)使用Ar或O2更快。正離子加速后,氬氣產(chǎn)生的機(jī)械能可以反映氧離子。因此,環(huán)境污染不太樂(lè)觀的材料表面可以用物理方法消除。
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